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              超快極紫外(EUV)阿秒多層反射鏡

              簡(jiǎn)要描述:UltraFast Innovations (UFI)極紫外(EUV)阿秒多層反射鏡
              設(shè)計(jì)用于65eV(19nm)下的 330 阿秒脈沖
              具有38%峰值反射率的多層鍍膜
              ≤1Å 表面粗糙度超拋光基底
              另外提供專為 13.5nm 設(shè)計(jì)的極紫外(EUV)平面反射鏡 和 極紫外(EUV)球面反射鏡
              備有現(xiàn)貨庫(kù)存
              無(wú)最小起訂量、無(wú)鍍膜批次費(fèi)用

              基礎(chǔ)信息

              產(chǎn)品型號(hào)

              廠商性質(zhì)

              經(jīng)銷商

              更新時(shí)間

              2025-09-16

              瀏覽次數(shù)

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              詳細(xì)介紹
              品牌Edmund Optics價(jià)格區(qū)間面議
              組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域綜合

              UltraFast Innovations (UFI)極紫外(EUV)阿秒多層反射鏡

              設(shè)計(jì)用于65eV(19nm)下的 330 阿秒脈沖

              具有38%峰值反射率的多層鍍膜

              ≤1? 表面粗糙度超拋光基底

              另外提供專為 13.5nm 設(shè)計(jì)的極紫外(EUV)平面反射鏡 和 極紫外(EUV)球面反射鏡

              備有現(xiàn)貨庫(kù)存

              無(wú)最小起訂量、無(wú)鍍膜批次費(fèi)用


              通用規(guī)格

              直徑 (mm):
              25.40 ±0.13
              基底:
              Fused Silica (Corning 7980)
              后表面:
              Commercial Polish
              涂層規(guī)格:
              Rs > 38% @ 65eV/19nm
              涂層:
              EUV Multilayer (19nm)
              入射角 (°):
              5
              有效孔徑 (%):
              80
              設(shè)計(jì)波長(zhǎng) DWL (nm):
              19
              邊緣:
              Fine Ground
              表面粗糙度(埃):
              <1
              Center Energy (eV):
              65 ±2
              Bandwidth (eV):
              6
              Supported Pulse Duration:
              330 attoseconds
              邊緣厚度 ET (mm):
              6.35 ±0.20


              型號(hào)

              產(chǎn)品編碼 標(biāo)題 
              #16-76525.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror
              #16-76625.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror
              #16-76725.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror

              詳細(xì)資料

              UltraFast Innovations (UFI)的極紫外光(EUV/XUV)阿秒多層反射鏡設(shè)計(jì)用于阿秒脈沖的轉(zhuǎn)向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV(19nm),帶寬為6eV(1.8nm),為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續(xù)時(shí)間為330阿秒的極紫外(EUV)脈沖。 UFI極紫外(EUV/XUV)阿秒反射鏡是基于高次諧波(HHG)、自由電子激光器(FEL)或其他量子光學(xué)應(yīng)用產(chǎn)生和整形阿秒脈沖的理想選擇。

              原子般精密的離子束沉積可以獲得原子般光滑的鍍膜。這些反射鏡能夠在不斷增長(zhǎng)的應(yīng)用空間中高效精確地控制波長(zhǎng)和光譜相位。亞秒科學(xué)突破了超快激光器的極限,提供了接觸一些最基本的科學(xué)過(guò)程的機(jī)會(huì),如:電子的運(yùn)動(dòng)。極紫外(EUV)反射鏡也被稱為XUV/軟X射線反射鏡。極紫外(EUV)阿秒多層反射鏡背后的物理原理是來(lái)自多層膜堆疊的每個(gè)界面反射和散射 EUV 輻射的干涉。可提供直徑為25.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡;如果您的應(yīng)用需要定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的極紫外(EUV)多層反射鏡,請(qǐng)與我們聯(lián)系。

              技術(shù)數(shù)據(jù)

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